元素符号
ge
原子序数
32
原子量
72.61
熔点
938°c
纯度
 99.999％
沸点
2830°c
密度
5323kg/m3
颜色
灰白色
合成方法
提炼锗的原理是先将硫化物矿氧化，使矿石中的硫化锗转化为二氧化锗，再用盐酸溶解并蒸馏，利用四氯化锗的挥发性将它分离出来。再将四氯化锗水解，使其转变为二氧化锗，然后在低于540℃的温度用氢气还原氧化锗。
产品规格
（1—10mm）不规则颗粒
（直径＜360mm  厚度＞1mm）圆片、圆台、圆棒
（直径＜360mm  厚度＞1mm）台阶状（可拼接）、矩形、片状
旋转靶材、圆环、管材等
根据图纸或按要求定制，来电咨询
产品优点
质量可靠，价格优惠，真空熔炼，设备提纯，纯度高，杂质少，轧制致密，氧化少，成型可塑，相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高
产品用途
是一种重要的材料，用于制造及各种电子装置。主要的终端应用为系统与（infrared optics），也用于的，制造电子器件与太阳能电力等。
产品附件
正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票
产品包装
真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
制作工艺
真空磁悬浮熔炼，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工
适用仪器
各类型号磁控溅射设备
交货期
单片材料1周内发货，批量材料7—10个工作日内发货
产品运输
国内快递承运（顺丰，申通，ems，德邦等）
起订量
1
'
产品规格：
1.圆片/圆台（直径1mm）
2.矩形/片材/台阶状（长<300mmx宽1mm）
3.管材/圆环/旋转靶材（直径2mm）
4.另外可按客户要求订做
用途:
溅射材料,真空镀膜，光学镀膜 锗靶材 实验，
安全措施  
      1.贮于阴凉通风处,不可用手直接与产品接触,操作时需佩戴手套  
　　2.皮肤接触：脱去被污染的衣着，立即用水冲洗至少15分钟
　　3.眼睛接触：立即提起眼睑，用流动清水冲洗10分钟或用2%碳酸氢钠溶液冲洗
　　4.吸入：迅速脱离现场至空气新鲜处。保持呼吸道通畅。呼吸困难时给输氧。呼吸停止时立即进行人工呼吸,就医。
　  5.食入：误服者立即洗胃。就医
t e l ： 010 56188357
mob ：15652065551
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